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三星电子为平泽半导体生产基地 P5 晶圆厂集群首个阶段 PH1 订购 70 余台光刻机，为 2027 年投运做准备。这些光刻机来自 ASML 和佳能，约 20 台为 ASML 的 EUV 曝光系统。P5 PH1 将用于 1c nm 制程 DRAM 生产，同时制造通用内存和 HBM。