阿斯麦和 IMEC 联合光刻实验室启用：最早 2025 年大量生产 High NA EUV

比利时微电子研究中心（IMEC）和阿斯麦（ASML）在荷兰费尔德霍芬联合开设了 High-NA EUV 光刻实验室，配备了一台原型高数值孔径 EUV 扫描仪和配套工具，旨在支持全球领先的芯片制造商和供应商。该实验室被视为 High-NA EUV 技术大规模量产准备的重要里程碑，预计 2025-2026 年将实现大规模应用。阿斯麦已展示体积庞大、重量达 150 吨的 High NA EUV 光刻机，其制造成本高昂，但对实现 2nm 以下先进制程的大规模量产至关重要。