国产 AST6200 光刻机：9 个月获批量订单 化合物半导体领域实现自主突破

芯上微装自主研发的 350nm 步进投影光刻机 AST6200 通过国内化合物半导体头部企业全流程工艺验证并获批量重复采购订单。该设备具备 350nm 稳定分辨率等性能，兼容多种衬底材料，软件控制系统全栈自主开发，适用于功率器件等产线，从首台发运到获批量订单仅用 9 个月，填补了国产中高端光刻设备在第三代半导体量产线的空白，使国产设备在相关细分市场具备替代进口能力。需说明的是，该设备属步进光刻机技术路线，与硅基逻辑芯片用的步进扫描式光刻机原理和应用场景不同。芯上微装是上海微电子拆分设立的企业，专注「超越摩尔」赛道，在先进封装光刻机市场全球占比约 35%，国内占比 90%。