ASML 展示首款先进封装大视场光刻机

在第八届进博会上，半导体设备供应商 ASML 展示部分全景光刻产品与技术，其中 DUV 光刻机包括 TWINSCAN XT:260、TWINSCAN NXT:870B。TWINSCAN XT:260 是首款可服务于先进封装领域的光刻系统，大视场曝光可提高 4 倍生产效率。TWINSCAN NXT:870B 在升级光学器件和新一代磁悬浮平台支持下，每小时晶圆产量超 400 片。