阿斯麦 High-NA EUV 光刻机取得重大突破

荷兰阿斯麦公司宣布，其首台采用 0.55 数值孔径投影光学系统的高数值孔径极紫外光刻机已成功印刷出 10 纳米线宽图案，实现重大技术突破。该公司及合作伙伴将推进系统性能，以实现在现实生产环境中的复制。此外，英特尔公司将利用该技术进行 18A 制程工艺研发，并计划在未来部署下一代光刻机。高数值孔径光刻机能实现 8nm 超高分辨率，对制造 3nm 以下制程芯片具有重要意义，可望简化生产流程、提高产量并降低成本，但设备价格高达 4 亿美元，应用过程中面临诸多挑战。