1 月 15 日
韩国芯片制造商SK 海力士计划突破美国对华的极紫外(EUV)光刻机出口限制,对中国半导体工厂进行技术升级改造,以提高制造工艺水平。这一举措旨在应对半导体市场复苏和中国高性能半导体制造能力提升的挑战。
SK 海力士将升级中国半导体工厂 采用第四代 10 纳米工艺
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韩媒:韩国芯片巨头 SK 海力士计划升级在华工厂
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韩国芯片巨头 SK 海力士计划升级在华工厂
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韩国芯片制造商SK 海力士计划突破美国对华的极紫外(EUV)光刻机出口限制,对中国半导体工厂进行技术升级改造,以提高制造工艺水平。这一举措旨在应对半导体市场复苏和中国高性能半导体制造能力提升的挑战。