俄罗斯宣布正生产光刻机：2024 年 350nm，2028 年 7nm

俄罗斯宣布正在研发光刻机，最快将于 2024 年推出 350nm 和 130nm 的光刻机，并表示目前全球只有两家公司能够生产此类设备，俄罗斯正在努力改变这一格局。该国还开发了一种新的「国产光刻复合体」，解决了微电子领域技术主权问题。俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构也宣称，将在 2028 年开发出可以生产 7 纳米芯片的光刻机，击败 ASML 同类产品。