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消息称三星电子加速 1.4nm 先进制程研发，深化与应材、泛林合作
6 月 30 日
三星电子正重新加速 1.4nm（SF1.4）工艺节点研发，其量产时间从原计划的 2027 年推迟至 2029 年。三星近期向应用材料、泛林研究等主要半导体设备企业分享 SF1.4 工艺方案，以协力打造适合该节点的设备组合，包括标准设备的定制化版本。三星已从 ASML 引进 High NA EUV 光刻图案化设备并部署在 NRD-K 半导体研发综合体中，该设备预计最早在 SF1.4 节点用于生产。此外，三星也已针对第 12 代 V-NAND 订购设备，该工艺预计 2030 年前后量产，采用晶圆堆叠结构。
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