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北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者，首次运用冷冻电子断层扫描技术，在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可减少光刻缺陷的产业化方案，相关论文刊发于《自然・通讯》。「显影」是光刻核心步骤，光刻胶在显影液中的微观行为长期是「黑匣子」，制约先进制程良率提升。该技术合成出分辨率优于 5 纳米的微观三维「全景照片」，克服传统技术痛点。彭海琳称，此技术可推动先进制程关键工艺的缺陷控制与良率提升。