西湖大学等提出 StyleStudio 攻克「过拟合」难题

西湖大学、复旦大学等机构的研究人员提出了 StyleStudio，这是一种无需额外训练即可增强文本控制能力、提升风格选择灵活性，并改善图像稳定性的风格迁移方法。StyleStudio 通过跨模态 AdaIN 技术融合文本和风格特征、使用教师模型稳定布局、引入基于风格的无分类器引导，解决了风格过拟合、文本对齐差和图像不稳定的问题。实验结果表明，StyleStudio 在文本对齐、图像稳定性和复杂文本条件下的处理能力方面超越了现有技术。该研究已成功中稿 CVPR 2025，代码已开源。