国产光刻胶通过量产验证：120nm 分辨率 配方全自主设计

武汉太紫微光电科技有限公司推出的 T150 A 光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证，该产品实现了配方全自主设计，极限分辨率达到 120nm，工艺宽容度大，稳定性高，并在密集图形刻蚀后展现优异的侧壁垂直度。太紫微公司成立于 2024 年 5 月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。