黄仁勋判断中国 2030 年能造出国产先进光刻系统

英伟达 CEO 黄仁勋判断中国到 2030 年就能做出自己的先进光刻系统，且技术成熟后国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。该判断比阿斯麦 EUV 光学系统核心供应商蔡司的相关判断更乐观，蔡司半导体负责人称中国做出国产 EUV 光刻机或需约 15 年。需注意的是，提问未限定为 EUV，黄仁勋的回答也未明确提及 EUV。