韩国简化极紫外光刻机进口程序，以支持芯片产业发展

韩国政府将简化极紫外光刻（EUV）设备的进口程序，根据韩国内阁批准的《高压气体安全管理法》修订实施细则，EUV 设备进口时间预计从 34 天缩短至约 9 天，以帮助三星电子和 SK 海力士等国内芯片制造商快速获得 EUV 设备，保持芯片产业制造竞争力。