阿斯麦公布 EUV 光源技术突破,到 2030 年芯片产能有望提升 50%2 月 23 日收藏当地时间 2 月 23 日,阿斯麦研究人员称已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法,将 EUV 光源功率提升至 1000 瓦有望在 2030 年前使芯片产量提高 50%。ASML 改进极紫外光源有望增加芯片产量Solidot芯片产出速度提升 50% ASML 取得关键技术突破,EUV 光刻光源实现千瓦级跃迁麻省理工科技评论ASML 计划将 EUV 光源功率提至 1000W:2030 年每小时晶圆产量可提升 50%快科技展开全部报道专业版功能登录体验专业版特色功能,拓展更丰富、更全面的相关内容。