混合 CMOS 芯片堆叠层数大幅提升,有助电子设备小型化和性能提升
2025 年 10 月 21 日

沙特阿卜杜拉国王科技大学研究人员在微芯片设计领域取得突破,研制出全球首个面向大面积电子器件的 6 层堆叠式混合互补金属氧化物半导体(CMOS)芯片,此前公开报道的混合 CMOS 堆叠层数未超两层,该突破提升了芯片集成密度与能效,有助于电子设备小型化和性能提升。

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