TechInsights：预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦

TechInsights 分析显示，ASML 的 0.33 NA EUV 光刻机功耗为 1170 kW，而 0.55NA 光刻机功耗预计将达 1400 kW。目前全球 31 家晶圆厂使用 EUV 光刻机，预计到 2030 年将增至 59 家，设备数量也将翻倍。2030 年，全球 EUV 光刻机将消耗 6100 GWh 电力，与卢森堡和柬埔寨 2020 年的全国用电量相当。然而，EUV 光刻机仅占晶圆厂总用电量的 11%，其他设备和系统也对环境产生显著影响。半导体行业面临能源效率的挑战，需要在满足先进芯片需求与减少能源环境影响之间找到平衡。