三星仍需解决 3nm 工艺良品率问题 目前在 50% 附近徘徊
3 月 7 日

三星在 3nm 工艺的良品率上遇到挑战,目前徘徊在 50% 附近,主要原因是新的 GAA 架构晶体管技术的不稳定性。尽管在 4nm 工艺上良品率已达到 75%,但在 3nm 工艺上,三星仍需努力。明年计划采用 3nm 工艺制造的 Exynos 2500 芯片,其良品率问题若得不到解决,将难以与高通联发科竞争。

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