三星仍需解决 3nm 工艺良品率问题 目前在 50% 附近徘徊

三星在 3nm 工艺的良品率上遇到挑战，目前徘徊在 50% 附近，主要原因是新的 GAA 架构晶体管技术的不稳定性。尽管在 4nm 工艺上良品率已达到 75%，但在 3nm 工艺上，三星仍需努力。明年计划采用 3nm 工艺制造的 Exynos 2500 芯片，其良品率问题若得不到解决，将难以与高通及联发科竞争。