日本严格管制半导体材料多少都会影响三星的芯片、面板研发、生产，但是上周三星依然在日本举行了 「三星晶圆代工论坛」 SFF 会议，公布了旗下新一代工艺的进展，其中 3nm 工艺明年就完成开发了 … 在 3nm 节点，三星将从 FinFET 晶体管转向 GAA 环绕栅极晶体管工艺，其中 3nm 工艺使用的是第一代 GAA 晶体管，官方称之为 3GAE 工艺 … 在这次的日本 SFF 会议上，三星还公布了 3nm 工艺的具体指标，与现在的 7nm 工艺相比，3nm 工艺可将核心面积减少 45%，功耗降低 50%，性能提升 35%。