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三星宣布 3nm 芯片成功流片 规模化量产时间节点临近
2021 年 6 月 29 日

三星的 3nm 制程采用的是 GAA 架构,性能优于台积电的 3nm FinFET 架构 … 报道称,三星在 3nm 制程的流片进度是与新思科技合作完成的,目的在于加速为 GAA 架构的生产流程提供高度优化的参考方法 … 伴随着此次成功流片,三星 3nm 芯片大规模量产的时间节点已经正式临近。

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